Przedmiotem inwestycji było wykonanie infrastruktury typu Clean Room na potrzeby zainstalowania uniwersalnej linii technologicznej, przeznaczonej do badania procesów wytwarzania nanostruktur i prototypów przyrządów półprzewodnikowych, z uwzględnieniem wykonania także wymaganych systemów technologicznych a w szczególności:

• specjalistycznego układu wentylacyjno-klimatyzacyjnego odpowiedniego dla klasy czystości 1000 i 10000
• specjalistycznych systemów czystych gazów i ultraczystej wody do procesów technologicznych
• układów technologicznych wymaganych do podłączenia urządzeń wchodzących w skład uniwersalnej linii technologicznej wyposażonej w urządzenie do epitaksji z wiązek molekularnych (MBE).